Instrumentation cryogenique en technologie bicmos sige

• Date de parution : 23/09/2010
• Editeur : Editions Universitaires Europeennes
• EAN : 9786131537035
• Série : (-)
• Support : Papier

• Nombre de pages : (-)
• Collection : (-)
• Genre : Lettres et linguistique
• Thème : Critiques et Essais de Lettres et linguistique
• Prix littéraire(s) : (-)

Les travaux présentés dans ce manuscrit de thèse sont consacrés au fonctionnement des technologies bipolaires, et plus particulièrement des technologies BiCMOS SiGe, pour une utilisation à température cryogénique. Un état de l'art sur les transistors bipolaires et les bruits électroniques que... Voir plus

Les travaux présentés dans ce manuscrit de thèse sont consacrés au fonctionnement des technologies bipolaires, et plus particulièrement des technologies BiCMOS SiGe, pour une utilisation à température cryogénique. Un état de l'art sur les transistors bipolaires et les bruits électroniques que l'on rencontre sur ce genre de technologie sont donnés avec une approche orientée vers les basses températures. Ces rappels permettent d'aborder les mesures, des paramètres basse fréquence et du bruit, réalisées sur des transistors bipolaires silicium et sur deux technologies SiGe à 300 K, 77 K et 4.2 K. Il est ensuite présenté deux réalisations d'ASIC cryogénique en technologie standard BiCMOS SiGe. La première est un amplificateur bas bruit (1 nV/sqrtHz) et large bande (1 GHz) fonctionnant à 77 K. Il est destiné à la caractérisation de bolomètres supraconducteurs YBaCuO à électrons chauds. La seconde réalisation est un circuit de lecture et de multiplexage de matrice de SQUID. Il est, en particulier, présenté le développement, la réalisation et le test d'un amplificateur ultra bas bruit (0.2 nV/sqrtHz) à entrées multiplexées fonctionnant à 4.2 K.